新能源汽车、光伏等领域的迅猛发展导致对第三代半导体需求激增，碳化硅（SiC）衬底市场迎来爆发期，长晶炉作为碳化硅衬底制造的核心制程，需在 2300℃ 高温密闭环境中持续 7 天以上作业，其控制终端普遍采用“触摸屏 + PLC 控制系统”，从而对稳定性、数据采集精度提出较高要求。
其内部的核心控制系统保障着整个工序的进行，面对严苛高温和长时间不间断运行，控制终端的产品设计会综合抗干扰性、接口丰富性、数据传输速度等角度来进行优化迭代，工业级触控平板电脑可支持精准调控、多参数实时反馈的需求，集成在长晶炉的控制柜内，扩展连接多个外部设备进行协作。
碳化硅长晶工艺的特殊性主要源于其材料本身的物理化学属性，导致工艺对温度、环境和控制精度的要求远高于传统硅材料。
小结一下碳化硅长晶工艺的三大关键难点——超高温度、严苛环境、极致精度，这些面对碳化硅长晶本身的属性克服问题，对于控制终端是不小的考验。
案例用户需要通过工业平板电脑实时监控设备状态，记录生产数据，追溯问题及工艺优化，同时需要具备灵敏的人机交互。因此，在部署于控制终端的触控平板电脑时，需从数据处理运算能力、产品运行的稳定性、EMC 抗干扰性进行全方位考量，给予充分支持。
SPES TECH 工业平板电脑 CIP-S15R-RPL1 ，采用 15 英寸电阻屏，千万级触控寿命，实验测试可承受 3500 万次触击，6000 万次笔划，背光寿命可达 50000 Hrs，可避免长晶炉高频加热器导致的电磁干扰，触控始终精准1。
搭载英特尔® 酷睿™ i5-1335U 处理器，Raptor Lake 平台，10 核 10 线程，12M 高速缓存，睿频至高 4.60 GHz1，方案采用 16GB 内存 / 512GB 存储 ，确保对长晶炉的数据处理及时稳定。
无风扇散热，前面板支持 IP65 防尘防水，在由软件不兼容、意外断电导致的系统崩溃时可启动 OS Recovery 系统一键还原，较大程度解决重装系统的难度/成本等问题2。
该方案已在山东某半导体股份有限公司落地应用，实际运行中每周还需要快速的数据导出，定期做数据分析比对，良好的系统性能保证生产数据导出不卡顿。
随着碳化硅长晶向更大尺寸、更高纯度突破，会持续带动控制反馈性能的提高，SPES TECH 深入各场景的控制终端，分析触控需求，保障工业平板电脑的运算能力、触控反馈与防护能力支撑着整体系统正常运行，为长晶炉智能化控制提供更可靠的核心支撑。
